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          電動(dòng)振動(dòng)系統(tǒng)介紹及原理!
          點(diǎn)擊次數(shù):8451 更新時(shí)間:2016-10-31

          一、概述

          與振動(dòng)有關(guān)的試驗(yàn)廣義上都可以稱(chēng)為振動(dòng)試驗(yàn)。在實(shí)際的工程中振動(dòng)對(duì)產(chǎn)品的主要影響有:

                1.結(jié)構(gòu)損壞 

                2.工作性能失靈

                3.工藝性能破壞

             為了提高產(chǎn)品的可靠性,使產(chǎn)品在使用中不發(fā)生上述的故障與破壞。振動(dòng)試驗(yàn)幾乎從元器件開(kāi)始,就伴隨著產(chǎn)品的整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程。

          二、電動(dòng)振動(dòng)試驗(yàn)系統(tǒng)

          電動(dòng)振動(dòng)試驗(yàn)系統(tǒng)是用來(lái)產(chǎn)生正弦、隨機(jī)、

          正弦加寬帶隨機(jī)、窄帶隨機(jī)加寬帶隨機(jī)和

          沖擊等激勵(lì)的一整套設(shè)備。它通常由電動(dòng)

          振動(dòng)臺(tái)、功率放大器、振動(dòng)控制儀及其附

          屬設(shè)備組成。系統(tǒng)框圖如下:

           

           

           

          三、振動(dòng)臺(tái)組成部分

          (1)電動(dòng)振動(dòng)臺(tái)體

          電動(dòng)振動(dòng)臺(tái)體是將電能轉(zhuǎn)換為機(jī)械能的換能器,它是整個(gè)設(shè)備的核心部分。電動(dòng)振動(dòng)臺(tái)其頻率范圍寬(從幾赫到數(shù)千赫),承載能力范圍較大(從數(shù)千克至數(shù)百千克),而且波形,控制方便,zui宜于實(shí)現(xiàn)各種復(fù)雜的試驗(yàn)波形和譜型。

             它是在各類(lèi)型振動(dòng)試驗(yàn)中應(yīng)用zui廣泛的一種振動(dòng)臺(tái)。

           (1)振動(dòng)臺(tái)臺(tái)體

           (2)

          (2)智能開(kāi)關(guān)式功率放大器

           

           

          (3)垂直擴(kuò)展臺(tái)面


          (4)數(shù)字振動(dòng)控制儀

           

          四、電動(dòng)振動(dòng)臺(tái)工作原理與臺(tái)體結(jié)構(gòu)

          振動(dòng)臺(tái)體是將電能轉(zhuǎn)換為機(jī)械能的換能器。

          基本工作原理基于載流導(dǎo)體在磁場(chǎng)中要受到電磁力作用的安培定律。

          載流導(dǎo)體所受電磁力與導(dǎo)體中的電流、導(dǎo)體在磁場(chǎng)中的有效長(zhǎng)度及導(dǎo)體所處磁場(chǎng)的磁感應(yīng)強(qiáng)度成正比。電磁力的方向用左手定則決定。

          驅(qū)動(dòng)線(xiàn)圈置于磁體的空氣隙中,由左手定則可知驅(qū)動(dòng)線(xiàn)圈受力F作用使臺(tái)面產(chǎn)生向下運(yùn)動(dòng),如改變流過(guò)驅(qū)動(dòng)線(xiàn)圈中電流的方向,驅(qū)動(dòng)線(xiàn)圈受到一相反的力,          使臺(tái)面向上運(yùn)動(dòng)。若在驅(qū)動(dòng)線(xiàn)圈中通一交變電流時(shí)它將使工作臺(tái)面在磁場(chǎng)中產(chǎn)生相對(duì)的交變運(yùn)動(dòng)。

           

          通常驅(qū)動(dòng)線(xiàn)圈中的交變電流是由可變頻率的勵(lì)信號(hào)源經(jīng)功率放大器放大后供給,而恒定磁場(chǎng)可以由電磁或永磁產(chǎn)生,但多用電磁產(chǎn)生。電動(dòng)振動(dòng)臺(tái)除振動(dòng)臺(tái)本體外,還有配套的電器設(shè)備和電子儀器,如信號(hào)發(fā)生器、功率放大器、直流勵(lì)磁電源、冷卻系統(tǒng)等。信號(hào)發(fā)生器產(chǎn)生交變信號(hào),經(jīng)功放放大后,輸入到動(dòng)圈,它與磁場(chǎng)作用即產(chǎn)生一個(gè)交變的力F,推動(dòng)可動(dòng)系統(tǒng)運(yùn)動(dòng)。設(shè)電i=Isinωt則力值為:     

                     F=Bli=Blisinωt   (N)

          其中B為環(huán)形氣隙中磁感應(yīng)強(qiáng)度(Wb/m2),l為圈繞線(xiàn)的有效長(zhǎng)度(m),I為動(dòng)圈中的電流(A)。試件與臺(tái)面一起在激振力F的作用下振動(dòng),其頻率

          決定于信號(hào)發(fā)生器的頻率ω,振動(dòng)幅值取定于電流I.

          四、振動(dòng)試驗(yàn)對(duì)設(shè)備的要求

          振動(dòng)試驗(yàn)對(duì)設(shè)備的要求一般依賴(lài)于試驗(yàn)

          方法標(biāo)準(zhǔn)。

           正弦振動(dòng)試驗(yàn)對(duì)設(shè)備的要求

            1、基本運(yùn)動(dòng):為時(shí)間的正弦函數(shù)。

            2、橫向運(yùn)動(dòng):垂直于主振方向的任何軸向檢測(cè)點(diǎn)上的zui大振幅

                  f<500Hz     ≤25%

                  f≥500Hz     ≤50%

            3、加速度波形失真:加速度 波形失真的測(cè)量應(yīng)在基準(zhǔn)點(diǎn)上進(jìn)行,其總的均方根諧波成分不得超過(guò)25%。失真測(cè)量應(yīng)包括到5000Hz的范圍或?yàn)橹髡耦l率的5倍(取大者)

          4、振幅容差:在所要求軸線(xiàn)上的檢測(cè)點(diǎn)和基準(zhǔn)點(diǎn)上的實(shí)際振幅應(yīng)等于所規(guī)定的值。在整個(gè)頻率范圍內(nèi)加速度幅值和位移幅值的允差為±(10—15)%

          5、頻率誤差

               5—50Hz       ±1%

               >50Hz         ±2%

          6、掃頻:掃頻應(yīng)是連續(xù)的,并且其頻率隨時(shí)間應(yīng)按指數(shù)規(guī)律進(jìn)行變化。掃頻的速率應(yīng)為1倍頻程/min,其容差為10%。其他標(biāo)準(zhǔn)如有規(guī)定,頻率按時(shí)間也可按線(xiàn)性規(guī)律變化。

          六、振動(dòng)臺(tái)應(yīng)具備的條件和功能

          1、能承受規(guī)定的載荷,并具有相當(dāng)面積  的用于安裝試品的工作臺(tái)面。

          2、能夠產(chǎn)生給定范圍的振動(dòng)頻率和規(guī)定范圍、規(guī)定方向的位移幅值。

          3、振動(dòng)臺(tái)的結(jié)構(gòu)應(yīng)能承受規(guī)定的加速度。

          4、工作臺(tái)面的運(yùn)動(dòng)應(yīng)為正弦波且振動(dòng)分布均勻。

          5、能實(shí)現(xiàn)定頻振動(dòng)和定幅值自動(dòng)掃頻振動(dòng),并能調(diào)整掃頻范圍及掃頻速率。

          6、能長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)工作,工作噪音盡量小。

          7、應(yīng)具備一定的正弦推力和隨機(jī)推力。

           

                              振動(dòng)臺(tái)臺(tái)體外觀圖

           

                              

          垂直臺(tái)體+垂直擴(kuò)展臺(tái)面安裝過(guò)程

           

          水平臺(tái)體及振動(dòng)方式

                                    貝爾廠區(qū)一角